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公司新聞

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曝光

發(fā)布時間：2014-07-27

曝光：用紫外光（UV）通過預先制作好的電極圖形掩模版

照射光刻膠表面，使被照光刻膠層發(fā)生反應，在涂有光刻膠

的玻璃上覆蓋光刻掩模版在紫外燈下對光刻膠進行選擇性

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